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展會邀約｜與大立過濾并肩攻克，先進制程微污染挑戰

更新時間：2026-10-09瀏覽：100次

　　芯片制造對流體潔凈度有著極高要求，微小顆粒與雜質都會影響晶圓成品良率。在濕法清洗、CMP 研磨、光刻膠供給這些關鍵環節，流體過濾是守住產品品質的重要一環。找到匹配產線工況的過濾方案，是很多半導體制造企業持續攻關的課題。

　　多年來大立持續深耕半導體流體凈化領域，依托成熟的產品、完善的驗證能力與大量現場工藝經驗，為客戶提供整套過濾解決方案，助力產線穩定運行。

　　為此，大立過濾誠邀行業同仁于2026 將于 10 月 14-16 日蒞臨深圳會展中心(福田)1M04A 展位交流指導。

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